Hot-Filament CVD

Durch chemische Abscheidung aus der Gasphase (Chemical Vapour Deposition, CVD) erzeugen wir Diamantschichten, die aus sehr vielen kleinen, zusammengewachsenen Diamantkristallen bestehen. Sowohl Bauteile mit komplexen Strukturen als auch große Abmessungen sind homogen beschichtbar. Ein 1800°C - 2500°C heißer Draht aus Wolfram, Tantal oder Rhenium produziert Radikale in einem Gasgemisch aus Wasserstoff und Methan, die sich auf dem etwa 600°C - 950°C heißen Substrat als kristalliner Diamant abscheiden. Durch gezielte Beeinflussung der Wachstumsparameter können verschiedene Diamantmorphologien und Wachstumsraten erreicht werden. Durchschnittliche Wachstumsraten bewegen sich im Bereich von 0,1 bis 1 Mikrometer pro Stunde.